沉积参数对磁控溅射沉积Ti-B-C薄膜力学性能的影响

Authors：徐淑艳; 王立海; 肖生苓; 罗甸; 唐光泽; 马欣新

Source：稀有金属材料与工程, 2013, S1: 179-182.

• Ti-B-C薄膜
• 力学性能
• 磁控溅射 Ti-B-C films
• mechanical properties
• magnetron sputtering

采用Ti/B4C复合靶作为靶材,通过磁控溅射方法沉积了成分、结构可调的Ti-B-C薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)分析了Ti-B-C薄膜的成分和结构,利用纳米压痕法测量了Ti-B-C薄膜的力学性能。结果表明,励磁线圈电流改变会影响薄膜的成分和结构,沉积温度改变对薄膜的成分无明显影响,但会影响薄膜结构,溅射电压改变对薄膜的成分和结构均无明显影响。薄膜的力学性能是薄膜中内应力和晶态硬质相含量综合作用的结果。通过调整沉积参数以及热处理条件,可以获得性能优异的Ti-B-C薄膜。

• Institution
  哈尔滨工业大学; 东北林业大学