真空热压技术制备EOS实验用LiH薄膜

Authors：谢军; 邢丕峰; 易泰民; 赵利平; 李朝阳; 杨蒙生; 郑凤成; 张林

Source：稀有金属材料与工程, 2013, (02): 424-428.

• 氢化锂
• 薄膜
• 热压
• 状态方程 LiH hydride
• film
• hot pressing
• EOS

氢化锂(LiH)是重要的热核材料,其状态方程参数是惯性约束聚变研究的重要内容。本工作采用真空热压技术制备氢化锂薄膜,在真空度小于5.0×10-4Pa,温度450℃,升温速率10℃/min,采取分段加压、退火,获得了厚度小于100μm、厚度一致性约98%的氢化锂薄膜,表面粗糙度小于100nm,热压后密度增加,达到0.780g/cm3。X射线衍射分析结果表明:薄膜的主要成分为氢化锂,薄膜存在择优取向、内应力、晶粒细化等特征。

• Institution
  中国工程物理研究院