PLD法制备NiO薄膜及结构和形貌的研究

摘要

利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si衬底上制备NiO薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析,研究衬底温度和脉冲激光能量对NiO薄膜结构和形貌的影响,得到生长质量较高、择优取向的多晶NiO薄膜的一种最佳制备条件。制备了p-NiO/n-Si异质结器件,I-V特性测试表明,器件具有良好的整流特性。

关键词