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孔、线共镀铜工艺研究与优化

何杰; 何为; 陶志华; 冯立; 徐缓; 周华; 李志丹; 郭茂贵
中国知网
电子科技大学; 博敏电子股份有限公司

摘要

应用孔线共镀铜工艺,制作了板厚1.5 mm、孔径200 m的导通孔及线宽、线距均为50 m的精细线路。用正交试验法的L16(45)正交表安排CuSO4、H2SO4、添加剂a、b的浓度四因素进行电镀试验,选取导通孔的深镀能力、精细线路的结合力和镀层的光亮性作为实验指标。通过对三个指标的综合分析,试验得到了最佳的电镀药液配方:CuSO4、H2SO4浓度分别为45 g/L及220 g/L,添加剂a和添加剂b的浓度为0.6 ml/L及20 ml/L。

关键词

孔线共镀 优化试验法 导通孔 精细线路 电镀铜 Simultaneous Electroplating Orthogonal Experiment Through Holes Fine Lines Electrocoppering