高氯酸铵脱除介孔氧化硅有机模板剂

作者：杨荣极; 蔡华强; 田莉; 姜凯; 黄辉

来源：含能材料, 2013, (02): 257-261.

• 物理化学
• 高氯酸铵(AP)
• 氧化
• 介孔氧化硅
• 模板剂 physical chemistry
• ammonium perchlorate
• oxidation
• mesoporous silicas
• organic templates

采用AP-HNO3组成的体系在低温(100℃左右)下快速完全地分解介孔氧化硅材料(SBA-15)的模板剂,得到开放孔道的SBA-15(N-SBA-15)。透射电镜(TEM)照片显示,N-SBA-15具有高度有序的二维六方结构(p6 mm)。与焙烧产物(C-SBA-15)的孔容(1.03cm3.g-1)和孔径(6.5nm)相比,N-SBA-15具有较大的孔容(1.40cm3.g-1)和孔径(10.4nm)。小角XRD谱图表明N-SBA-15没有明显的骨架收缩,红外光谱(FT-IR)显示其孔道表面存在大量硅羟基。与C-SBA-15相比,N-SBA-15只有很少的微孔孔容。因此,AP氧化是一种条件温和的获取高质量多孔氧化硅阵列材料的有效手段,它也适用于多种具有不同对称性介孔氧化硅(如Fm3 m,Im3 m,Ia3d等结构)模板剂的脱除。

• 单位
  中国工程物理研究院化工材料研究所; 西南科技大学