溅射功率对Mg_(0.2)Zn_(0.8)O∶Al紫外透明导电薄膜结构与性能的影响

Authors：王华; 燕红; 黄竹; 许积文; 杨玲

Source：太阳能学报, 2013, (08): 1317-1322.

• 紫外透明导电薄膜
• Mg0.2Zn0.8O:Al
• 磁控溅射
• 溅射功率
• 光电性能 UV-transparent conducting films
• Mg0.2Zn0.8O∶Al
• RF magnetron sputtering
• sputtering power
• photoelectric property

以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用磁控溅射工艺室温条件下在石英玻璃衬底上制备Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜。研究溅射功率对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响。测试结果表明:溅射功率不会明显影响薄膜中的成分及其浓度,并与靶材基本吻合;不同溅射功率下Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜均具有非常好的c轴择优取向生长特性,透光区域均扩展到紫外区域,而且随溅射功率从100W增大到200W,薄膜的晶粒有所增大,结晶程度明显提高,电阻率从50Ω·cm降低到不足1Ω·cm,透光率无明显差别,约为89%,带隙宽度略有减小,光吸收边略向长波方向移动,但溅射功率达到250W以后,薄膜质量有所下降,粗糙度增大,电阻率略有回升,透光率有所降低。

• Institution
  郑州铁路职业技术学院; 桂林电子科技大学