新型双极性高功率脉冲磁控溅射电源及放电特性研究

作者：吴厚朴; 田钦文; 田修波; 巩春志

来源：真空, 2019, (06): 1-6.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2019.06.01

• 双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射
• 正向脉冲
• 靶电压
• 靶电流
• 基体电流 bipolar pulse high power impulse magnetron sputtering
• positive pulse
• target voltage
• target current
• substrate current

独立设计研制了新型两段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,本电源具备3种工作模式:(1)传统高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电模式,(2)双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射(BP-HiPIMS)放电模式和(3)两段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射(DBP-HiPIMS)放电模式。特别是新提出的第三种工作模式,两段式双极性脉冲较传统的单段双极性脉冲具有较大的优势。本文研究了在传统BP-HiPIMS和新DBP-HiPIMS条件下,正向脉冲对Cr靶在Ar气气氛下的放电特性的影响。研究发现:随着正向脉冲电压的增加,BP-HiPIMS和DBP-HiPIMS基体净离子平均电流均明显提高,且相比传统BP-HiP...

• 单位
  哈尔滨工业大学