5-甲基苯并三氮唑作为电腐蚀抑制剂在铜电化学机械平坦化中的应用(英文)

作者：边燕飞; 翟文杰; 朱宝全

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China (English Edition), 2013, (08): 2431-2438.

• 电化学机械平坦化
• 5-methyl-1H-benzotriazole
• 腐蚀抑制剂
• 氯离子 electrochemical-mechanical planarization
• 5-methyl-1H-benzotriazole
• corrosion inhibitor
• chloride ion

根据电化学分析,5-甲基苯并三氮唑(m-BTA)的腐蚀抑制能力要高于苯并三唑(BTA)的。当羟基乙叉二膦酸(HEDP)电解液中同时含有m-BTA及氯离子时,其抑制解离能力比只含有m-BTA的更好,即使施加更高的阳极氧化电位依然能保持良好的抑制能力。由电化学阻抗谱法、纳米划痕实验以及能谱分析结果得知,m-BTA抑制能力的提升是因为整体钝化膜厚度的增加而引起的。由X射线光电子能谱分析得知,氯离子与m-BTA钝化层形成[Cu(I)Cl(m-BTA)]n高分子化合物,使得整体钝化层厚度增加。因此,在含有m-BTA的HEDP电解液中添加氯离子有助于m-BTA钝化层抑制能力的增强,进而更有效的电位操作区间得到扩展。

• 单位
  哈尔滨工业大学