化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究

作者：陈如麒; 翁嘉文; 劳媚媚; 徐军; 朱贵文

来源：中山大学学报(自然科学版), 2012, (03): 60-62.

• LaNi1-xFexO3
• LNFeO-x
• 化学溶液沉积法
• CSD La1-xFexNiO3
• LNFeO-x
• chemical solution deposition method
• CSD

采用化学溶液沉积法,在(100)取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧(LaNi1-xFexO3,LNFeO-x)薄膜,研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明,经700℃1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构,没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密,没有微裂痕出现。随着铁含量的增加,薄膜电阻率由1.7 mΩ.cm增加到3.9 mΩ.cm。

• 单位
  广东药学院; 华南农业大学; 华南农业大学/理学院