溅射气压对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜变容管漏电特性影响研究

Authors：宋阳; 周勇; 蒋书文

Source：电子元件与材料, 2013, (11): 43.

• 溅射气压
• 钛酸锶钡(BST)
• 薄膜
• 变容管
• 漏电流
• 调谐率 sputtering pressure
• barium strontium titanate(BST)
• thin film
• varactors
• leakage current
• tunability

在氧气和氩气的混合气体中,采用射频磁控溅射方法在蓝宝石基片上溅射生长了Ba0.5Sr0.5TiO3(BST)薄膜,使用微细加工工艺制备了BST薄膜变容管,研究了溅射气压对薄膜变容管漏电流特性的影响。结果表明在基片温度800℃,溅射气压2.0 Pa,氧氩分压比为3:17的条件下沉积的BST薄膜结构致密,表面平整,所制薄膜变容管具有较小漏电流,在较高外加电场强度(3.0×106V/cm)下其漏电流密度不超过1.3×10–4A/cm2,耐压可以达到120 V,调谐率约为53.7%。

• Institution
  电子科技大学