基于FPGA的新型非对称双极脉冲磁控溅射电源的研究

作者：陈桂涛; 孙天乐; 孙强; 钟彦儒

来源：西安理工大学学报, 2013, (02): 216-220.

• 脉冲电源
• 非对称
• 磁控溅射
• 高自由度 pulse power
• asymmetric
• magnetron sputtering
• high degree of freedom

研究了基于FPGA的非对称双极脉冲电源,解决了磁控溅射工艺中遇到的共性问题,同时获得了优异的膜层性能和更宽的工艺范围。可以根据磁控溅射电源工艺需求对双向脉冲参数包括脉冲幅值、频率、占空比,以及正负向个数和正向脉冲与负向脉冲之间的换向时间等自由调节。最后设计了一个6 kW/100 kHz样机,前级采用两个独立的DC/DC变换器作为直流源,后级为一个非对称脉冲发生器。采用Altera公司的FPGA(EP3C25Q240C8)作为数字处理器实现了电源的数字控制,同时对后级脉冲变换环节实现高自由度控制,通过实验结果分析进一步验证了设计的可行性。

• 单位
  西安理工大学