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摘要
目的:基于有限元数值计算方法探讨不同基底瓷厚度对IPS e.max press全瓷冠应力的影响。方法:建立下颌第一磨牙形态试件,基底瓷厚度分别为0.30 mm、0.50 mm、0.75 mm、1.00 mm、1.20 mm五组全瓷冠轴对称的有限元模型,模拟最大咬合力600 N垂直加载于半球形加载头,得出全瓷冠应力分布状态。结果:五组模型应力分布区域相似,全瓷冠最大主应力峰值均位于基底瓷层内,主要集中在加载区下方邻接粘结剂的基底瓷处;饰面瓷的最大主应力峰值主要集中在饰面瓷咬合面与半球形加载头接触的外侧周围;基牙及粘结剂最大主应力峰值均集中在肩台处。全瓷冠压应力峰值主要集中在加载区下方与半球形加载头接触的饰面瓷区域;IPS e.max press全瓷冠的基底瓷厚度对全瓷冠、基底瓷、饰面瓷、基牙及粘结剂的最大主应力均有影响。结论:IPS e.max press全瓷冠在正常咬合力作用下,可以在满足美观的基础上,尽量增加基底瓷厚度,以期增加全瓷冠整体断裂强度,提高使用寿命。
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单位中国人民解放军第四军医大学
